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박일수 (동명대학교)
저널정보
한국마린엔지니어링학회 한국마린엔지니어링학회 학술대회 논문집 한국마린엔지니어링학회 2010년도 후기학술대회 논문집
발행연도
2010.10
수록면
495 - 497 (3page)

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Formation of TiN films by PVD method and the DC and RF sputtering deposition method can be applied, the injected gas to generate plasma ionization rate of the film forming speed is slow away, anything to increase the adhesion between films limitations have. To improve this, to investigate the deposition and ion beam eva ... 전체 초록 보기
#플라즈마(Plasma) #이온빔 진공증착(Ion beam assisted deposition) #PVD 방식(Physical vapor deposition) #CVD 방식(Chemical vapor deposition)

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