Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma

Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Power Dissipation in a RF Capacitively Coupled Plasma

T. H. T ,  an ,  S. J. You 외 3명

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2013 .02

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

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2017 .08

2D GPU-PIC을 이용한 Capacitively Coupled Plasma 장비 내에서 발생하는 Micro-arc 현상 연구

김창호 ,  허민영 ,  김진석 외 1명

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2018 .02

Development of an Improved Numerical Methodology for Design and Modification of Large Area Plasma Processing Chamber

김호준 ,  이승무 ,  원제형

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2014 .02

Plasma Diagnostics using Optical Emission Spectroscopy on Argon Capacitively Coupled Plasma with Various Line-of-Sight

Jaemin Song ,  Jongsik Kim ,  Dae Chul Kim 외 6명

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2019 .08

Capacitively Coupled, RF Excited CH₄ Plasma 에서의 Particle 발생및 그 특성에 관한 연구

연충규 ,  황기웅

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1994 .02

Research to Achieve Uniform Plasma in Multi-ground Capacitive Coupled Plasma

박기정 ,  이윤성 ,  유대호 외 3명

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2014 .02

상압에서 capacitively couple plasma type의 capillary electrode discharge를 이용한 glow discharge plasma의 특성연구

이창헌 ,  이용혁 ,  김동우 외 1명

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2001 .07

Simulation and Measurement of Characteristic in 450 ㎜ CCP Plasma Source

박기정 ,  서상훈 ,  장홍영

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2012 .02

CFD-Plasma & K-Plasma를 이용한 plasma simulation

유동훈

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2008 .08

Initial Study of Electron Temperature and Density Simulation on Capacitively Coupled RF He Plasma

Deokho Hwang ,  Sanghyeok Pa ,  k 외 7명

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2019 .08

Frequency dependence of electron energy distribution function and plasma parameters in capacitively coupled argon discharge

안승규 ,  유신재 ,  장홍영

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2005 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

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2018 .02

Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F₈/ O₂ 가스의 특성 해석

김환호 ,  이정열 ,  박희성 외 2명

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2019 .08

대면적 Transformer Coupled Plasma Source 에서 파워결합에 관한 실험적 연구

김희준 ,  손명근 ,  황용석

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1998 .02

Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas

김희주 ,  신예지 ,  김교운 외 4명

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2020 .02

낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구

탁현우 ,  문룡 ,  성다인 외 3명

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2020 .02

On the uniformity of electric field controlled plasma sources

이용관

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2004 .08

EEDF measurement in SF6+O2 & CF4+O2 mixture gas capacitively coupled plasma

안승규 ,  유신재 ,  장홍영

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2006 .02