CMOS 소자 응용을 위한 Plasma doping과 Silicide 형성

최장훈; 도승우; 서영호; 이용현

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 최장훈 (경북대학교) 도승우 (경북대학교) 서영호 (경북대학교) 이용현 (경북대학교)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제38회 동계정기학술대회 프로그램집

발행연도: 2010.2

수록면: 456 - 456 (1page)

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논문수 8 이용수 349

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소속기관 경북대학교

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논문수 9 이용수 844

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이용현

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	저자 메타	소속기관, 소속부서, 직급, 연구분야, 연구키워드, 이용수, 피인용수, 저자 논문활용도

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