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김기돈 (한국기계연구원) 신요셉 (한국기계연구원) 이기중 (한국기계연구원) 이지혜 (한국기계연구원) 최대근 (한국기계연구원) 최준혁 (한국기계연구원) 정준호 (한국기계연구원) 이응숙 (한국기계연구원)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2010년도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2010.11
수록면
4,181 - 4,184 (4page)

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We proposed stitch nanoimprint lithography combined with reverse-tone nanoimprint lithography to fabricate a large area nano-structured stamp. The stitch nanoimprint lithography has been a promising alternative to expensive conventional lithography methods such as e-beam lithography and KrF stepper. In this study reverse tone imprint lithography was performed to obtain opposite nano-structured patterns. Silicone(20wt%) contained polymer was coated on imprinted nanopatterns. This layer was used for the etch barrier of a Si wafer. We fabricated 250㎚ line and space grating patterns on 50×50㎟ area. Stitch accuracy of a grating pattern was smaller than 5um, which was undetectable by the naked eye.
#나노임프린트 #대면적 스탬프 #반복적 임프린트[Nanoimprint #Large-area stamp #stitch imprint]

목차

Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
후기
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