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학술저널
저자정보
김진사 (조선이공대학) 최운식 (대불대학교) 김충혁 (광운대학교)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제58권 제3호
발행연도
2009.3
수록면
544 - 547 (4page)

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The Sr<SUB>0.7</SUB>Bi<SUB>2.3</SUB>Nb₂O?(SBN) thin films are deposited on Pt-coated electrode(Pt/Ti/SiO₂/Si) using RF sputtering method at various deposition temperature. The optimum conditions of RF power and Ar/O₂ ratio were 60[W] and 70/30, respectively. Deposition rate of SBN thin films was about 4.17[㎚/min]. The crystallinity of SBN thin films were increased with increase of deposition temperature in the temperature range of 100~400[℃], the surface rougness showed about 4.33[㎚]. The capacitance of SBN thin films were increased with the increase of deposition temperature.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
저자소개

참고문헌 (12)

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