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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
[참고문헌]
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MPCVD에 의해 합성된 다이아몬드 박막 특성에 대한 증착조건의 영향
전기학회논문지 P
2002 .03
Growth and In-situ Sulfur Doping to Diamond Thin Films in a Microwave-plasma Chemical Vapor Deposition
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
마이크로웨이브 화학기상합성법을 이용한 압력에 따른 탄소나노튜브의 성장 효과
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .07
Conductive characterization of Boron doped Diamond thin films by Microwave Chemical Vapor Deposition
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
3극 마그네트론 스팟터링 화학 기상 증착법에 의한 도전성 다이아 몬드성 탄소 박막의 합성
한국표면공학회지
1996 .06
NITROGEN DOPED DIAMOND LIKE CARBON FILM SYNTHESIZED BY MICROWAVE PLASMA CVD
한국표면공학회지
1996 .10
A Numerical Simulation of Ion Acceleration to Negatively-biased Substrates in a Microwave-plasma Chemical Vapor Deposition of Diamond
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Microwave Plasma CVD로 제조한 다이아몬드 박막의Morphology에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
Microwave Plasma를 이용하여 증착한 diamond 박막의 증착변수에 따른 증착특성 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
저압화학기상성장법으로 제작된 실리콘 옥시나이트라이드의 pH 농도감지특성 조절에 관한 연구
전기학회논문지
1997 .03
RF Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond-like and Graphitic Carbon
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1989 .11
Microwave Plasma Process에 의한 N-Hexane으로부터 다이아몬드 박막제작 및 특성
조명·전기설비학회논문지
2011 .04
플라즈마 화학 증착법으로 제조된 (Ti1-xAlx)N 박막의 열처리에 따른 특성 평가
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2001 .11
rf 플라즈마 화학기상증착기의 제작 및 특성
한국표면공학회지
2000 .04
A Kinetic Study on the Growth of Nanocrystalline Diamond Particles to Thin Film on Silicon Substrate
한국표면공학회지
2011 .08
가스 유량과 RF Power에 따라 PECVD 방법으로 증착된 DLC 박막의 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .06
폴리 실리콘 위에서 나노결정질 다이아몬드 박막 성장
한국표면공학회지
2017 .10
Modeling the Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Process Using Polynomial Neural Networks
한국지능시스템학회 논문지
1999 .04
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