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金承國 (고려대학교) 張鍾賢 (고려대학교) 金秉玟 (고려대학교) 梁翔植 (아주대학교) 黃仁式 (케이엠에이치) 朴政浩 (고려대학교)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제56권 제12호
발행연도
2007.12
수록면
2,221 - 2,225 (5page)

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Hollow-type microneedle array can be used for painless, continuous and stable drug delivery through a human skin. The needles must be sharp and have sufficient length in order to penetrate the epidermis. An array of hollow-type silicon microneedles was fabricated by using deep reactive ion etching and HNA wet etching with two oxide masks. Isotropic etching was used to create tapered tips of the needles, and anisotropic etching of Bosch process was used to make the extended length and holes of microneedles. The microneedles were formed by three steps of isotropic, anisotropic, and isotropic etching in order. The holes were made by one anisotropic etching step. The fabricated microneedles have 170 ㎛ width, 40 ㎛ hole diameter and 230 ㎛ length.

목차

Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
감사의 글
참고문헌
저자소개

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