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대한전기학회 전기학회논문지 C 전기학회논문지 제55C권 제1호
발행연도
2006.1
수록면
45 - 49 (5page)

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A nano-stereolithography (NSL) process has been developed for the fabrication of three-dimensional (3D) micro-devices with high spatital resolution of approximately 100 ㎚. In the NSL process, a complicated 3D structure can be created by stacking layer-by-layer, so it does not require any sacrificial layer or any supporting structure. A laminated layer was fabricated by means of solidifying liquid-state monomers using two-photon absorption (TP A) which was induced by a femtosecond laser. When the fabrication of a 3D stacked structure was finished, unsolidified liquid resins were rinsed by ethanol to develop the fabricated structures; then, the polymerized structure was only left on the glass substrate. Through this work, several 3D microstructures such as a micro-channel, shell structures, and photonic crystals were fabricated to evaluate the possibility of the developed system.
#Two-Photon Polymerization #Nano-Etereolitl-Ography #3D Microstructures #Femtosecond Laser

목차

Abstract
1. 서론
2. 이광자 흡수 광중합에 대한 이론적 연구
3. 나노 스테레오리소그래피 공정
4. 극미세 3차원 형상제작
5. 결론
참고문헌
저자소개

참고문헌 (18)

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[학술지(정기간행물)] - S.Y. Chou / 2002. / Ultrafast and direct imprint of nanstructures in silicon 417 (20) : 835 ~ 837 google schola [학술지(정기간행물)] - X.-M. Zhao / 1996. / Fabrication of three-dimensional micro-structures: Microtransfer molding 8 : 837 ~ 840 google schola [학술지(정기간행물)] - E. Kim / 1995. / Polymer microstructures formed by moulding in capillaries 376 : 581 ~ 584 google schola [학술지(정기간행물)] - S.Y. Chou / 1996. / Nanoimprint lithography 14 (6) : 4129 ~ 4133 google schola [학술지(정기간행물)] - M.D. Austin / 2004. / Fabrication of 5 nm linewidth and 14 nm pitch feature by nanoimprint lithography 84 (26) : 5299 ~ 5301 google schola

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