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마이크로웨이브 플라즈마 화학기상증착(MPCVD) 시스템을 이용하여 실리콘 웨이퍼 위에나노결정질다이아몬드 박막을 증착하였다. 공정압력, 마이크로웨이브 전력, Ar/CH₄ 조성비를 일정하게 놓고 기판온도를 400℃ 및 600℃, 증착시간을 0.5, 1, 4시간으로 변화시켜 박막의 성장 과정을 관찰하였다. 성장 초기에 약 30 ㎚크기의 ... 전체 초록 보기

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