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Oxide CMP 공정의 최적화에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
Oxide CMP 공정의 최적화에 관한 연구 ( Optimizations for Oxide CMP Processes )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
CMP 공정 후의 오염 제어
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
1998 .05
다결정 실리콘 CMP 의 기계적 재료제거 특성
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2009 .06
화학기계적 연마(CMP) 공정과 관련연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2014 .10
CMP 공정에서 마찰에너지가 연마결과에 미치는 영향
대한기계학회 논문집 A권
2004 .11
CMP 장비의 초 고압(800g/cm²) 조건에서 구조 특성에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2015 .12
Table Unit 회전에 의한 CMP System 변형 해석
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2015 .05
Development of Multiple CMP Monitoring Systemfor Consumable Designs
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2007 .01
반도체 CMP공정에서의 웨이퍼 표면결함 생성 메커니즘에 대한 연구
한국트라이볼로지학회 학술대회
2012 .04
화학기계적 연마(CMP) 공정에서의 트라이볼로지 연구 동향
Tribology and Lubricants
2018 .06
패턴 밀도에 따른 산화막 웨이퍼의 CMP 모델링
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2017 .05
화학기계적연마(CMP) 공정에서의 환경부하 평가
한국트라이볼로지학회 학술대회
2012 .10
재생된 산화막 CMP용 슬러리의 특성에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
초고압력 Head Unit 이 CMP 장비의 변형에 미치는 영향 분석
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2015 .05
CMP특성과 온도의 상호관계에 관한 연구
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2002 .10
CMP 공정에서의 패드 물성변화 및 입자 거동에 대한 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2012 .06
실리콘 웨이퍼 폴리싱 공정에서 자연 산화막에 의한 마찰의 변화
한국트라이볼로지학회 학술대회
2010 .06
고분자 결함 구조에 따른 CMP pad의 표면 형상 및 CMP 성능 변화 연구
한국트라이볼로지학회 학술대회
2019 .04
Cu CMP에서 첨가제가 Polishing에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
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