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한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국공작기계학회 논문집 Vol.17 No.4
발행연도
2008.8
수록면
51 - 58 (8page)

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This paper presents a new design of the precision stage for the reticle in lithography process and a low hunting control method for the stage. The stage has three axes for X, Y, θ<SUB>z</SUB>, those actuated by three voice coil motors individually. The designed reticle stage system has three gap sensors and voice coil motors, and supported by four air bearings and the forward/inverse kinematics of the stage were solved to get an accurate reference position. When a stage is in regulating control mode, there always exist small fluctuations(stage hunting) in the stage movement. Because the low stage hunting characteristic is very important in recent lithography and nano-level applications, a special regulating controller for ultra low hunting is proposed in this paper. Also this research proposed the 2-step transmission system for preventing the noise infection from environmental devices. The experimental results showed the proposed regulating control system reduced hunting noise as 35㎚(rms) when a conventional PID generates 77㎚(rms) in the same mechanical system. Besides the reticle stage has 100㎚ linear accuracy and lμrad rotation accuracy at the control frequency of 8㎑.

목차

Abstract
1. 서론
2. 스테이지 설계
3. 제어 알고리즘
4. 실험 및 고찰
5. 결론
후기
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