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이용수
1. INTRODUCTION
2. EXPERIMENTAL PROCEDURE
3. RESULTS AND DISCUSSION
4. CONCLUSION
REFERENCE
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PECVD법을 이용한 탄소강의 페이스트 보라이딩
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .05
바나듐 및 크롬을 포함하는 다 성분 Boride 코팅의 생성 및 특성 평가
한국표면공학회지
2016 .04
SiC 복합체의 특성에 미치는 Boride의 영향
대한전기학회 학술대회 논문집
2004 .11
Boride 코팅의 고온 입자침식 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .11
Vanadium-Boride코팅의 고온 내입자침식성 평
Corrosion Science and Technology
2015 .01
Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
PECVD에 의해 제조된 ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$ 박막의 특성 및 전기적 성질
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
ECR-PECVD와 RF-PECVD법에 의해 증착된 TiN박막의 특성 비교
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
PECVD에 의한 질화 실리콘 박막의 증착
한국정보통신학회논문지
2007 .11
PECVD법에 의한 DLC 박막의 증착
한국표면공학회지
2002 .04
PECVD법에 의한 나노클러스터의 형성 및 메카니즘
한국마린엔지니어링학회 학술대회 논문집
2012 .10
PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)방법에 의한 a-C:H 박막의 열처리에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
PECVD에 의한 μc-Si : H 박막트랜지스터의 제조 ( Fabrication of μc-Si : H TFTs by PECVD )
전자공학회논문지-A
1996 .05
Optical Properties of Si nanocrystalline using PECVD
대한전기학회 학술대회 논문집
2011 .11
PECVD산화막을 이용한 삼층금속배선공정에 관한 연구 ( The Study on the Triple-Level metallization process Using PECVD Oxide )
대한전자공학회 학술대회
1990 .07
PECVD를 이용한 SiO2 / Si3N4 박막의 특성 고찰 ( Characteristics of SiO2 / Si3N4 Films Using the PECVD Method Under Various Conditions )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
PECVD를 이용한 Si₃N₄ 박막의 공정변수에 따른 특성분석과 응용
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
RF-PECVD법과 ECR-PECVD법에 의해 증착된 TiN 박막의 물성에 관한 비교 연구
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
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