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이 논문의 연구 히스토리 (3)
2003
평파형 고밀도 유도결합 BCl₃ 플라즈마를 이용한 AlGaAs와 InGaP의 건식식각
백인규
,
임완태
,
유승열
외 6명
한국표면공학회지
2003.08
학술저널
Comparison of High Density Plasma Etching of AlGaAs / GaAs and InGaP / GaAs in Planar Inductively Coupled BCl3 Plasmas
백인규
,
임완태
,
정필구
외 6명
한국진공학회 학술발표회초록집
2003.02
학술대회자료
$BCl_3$에 기초한 고밀도 유도결합 플라즈마에 의한 AlGaAs/GaAs 건식식각 비교
백인규
,
임완태
,
이제원
외 2명
한국재료학회 학술발표대회
2003.01
학술대회자료
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목차
요약
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
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고밀도 평판형 유도결합 BCl/SF 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs와 InGaP 반도체의 선택적 식각에 관한 연구
한국재료학회지
2005 .01
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A Study of Dry etching of GaAs over AlGaAs and InGaP Semiconductor in F-based Plasmas
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
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평판형 유도결합 BCl₃/SF₆플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 선택적 식각에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2004 .11
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평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 및 GaAs/InGaP 의 선택적 및 비선택적 건식식각의 비교
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
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평판형 유도결합 $BCL_3/CF_4$ 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 선택적 건식
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
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Interface Properties for INGaP / AlGaAs Heterojunction Measured by DLTS and C-V Method
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
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BCl3/Ne 혼합가스를 이용한 III-V 반도체의 고밀도 유도결합 플라즈마 식각
전기전자재료학회논문지
2003 .01
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BCl및 BCl/Ar 고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs와 AlGaS 반도체 소자의 건식식각
한국재료학회지
2003 .01
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${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
-
평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .11
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유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
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BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막의 식각
전기학회논문지
2007 .02
-
AlGaAs/GaAs HBT의 열화 분석과 InGaP ledge 에미터에 의한 신뢰도 개선 ( Degradation Analysis of AlGaAs/GaAs HBTs and Improvement of Reliability by using InGaP Ledge Emitter )
전자공학회논문지-D
1998 .07
-
BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막 식각
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .10
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자화된 평판형 유도 결합 플라즈마의 특성 및 건식 식각에의 응용
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
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BCl₃/Ar 식각 플라즈마에서의 이온 에너지 분포
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .11
-
유도결합플라즈마를 이용한 O2/BCl3/Ar가스에 따른 Indium Tin Oxide 박막의 식각 특성 연구
전기전자재료학회논문지
2010 .01
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$BCl_3$ 와 $BCl_3/Ar$ 유도결합 플라즈마에 따른 GaAs 건식식각 비교
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
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원자 규칙화 정도에 따른 InGaP double layer에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
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Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using $C_2F_6$ and $BCl_3-based$ gas Plasmas
한국재료학회 학술발표대회
2006 .01
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