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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2007도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2007.10
수록면
1 - 5 (5page)

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The mechanical behavior of thin films is very important to semiconductor and MEMS devices due to reliability issues. Thin metal films are often used as structural elements under various conditions. To understand mechanical behavior of thin film, we have utilized a bulge system and measured mechanical behavior of Al thin films. Al thin films were prepared on 2㎜ ×12 ㎜ rectangular silicon nitride membrane window in 2 x 2 ㎝ silicon frame. Load was applied to the membrane by Nitrogen gas and the bulge displacement was measured by the capacitance changes between the membrane and an electrode. The system provides a precise measurement of stress relaxation behavior of Al thin films at low strain.

목차

Abstract
1. 서론
2. Bulge 시편제작 및 장비설치
3. Bulge 시험 결과 및 토의
4. 요약 및 결론
후기
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