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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2004도 춘계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2004.4
수록면
978 - 982 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2004

광학 그레이팅의 사출성형제작을 위한 전자빔과 무반사 코팅층이 없는 크롬/퀠츠 마스크를 이용한 고종횡비 100㎚ 급 니켈 스탬퍼의 제작
서영호 ,  최두선 ,  이준형 외 2명 대한기계학회 논문집 A권 2004.11 학술저널
전자빔과 무반사층이 없는 크롬 마스크를 이용한 나노그레이팅 사출성형용 고종횡비 100㎚ 급 니켈 스템퍼의 제작
서영호 ,  최두선 ,  이준형 외 2명 대한기계학회 춘추학술대회 2004.04 학술대회자료

초록· 키워드

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We present high aspect ratio 100㎚-scale nickel stamper using e-beam lithography process and Cr/Qz mask for the injection molding process of nano grating patterns. Conventional photolithography blank mask (CrON/Cr/Qz) consists of quartz substrate, Cr layer of UV protection and CrON of anti-reflection layer. We have used Cr/Qz blank mask without anti-reflection layer of CrON which is non-conductive material and e-beam lithography process in order to simplify the nickel electroplating process. In nickel electroplating process, we have used Cr layer of UV protection as seed layer of nickel electroplating. Fabrication conditions of photolithography mask using e-beam lithography are optimized with respect to CrON/Cr/Qz blank mask. In this paper, we have optimized e-beam lithography process using Cr/Qz blank mask and fabricated nickel stamper using Cr seed layer. CrON/Cr/Qz blank mask and Cr/Qz blank mask require optimal e-beam dosage of 10.0μC/㎠ and 8.5μC/㎠, respectively. Finally, we have fabricated 116㎚±6㎚-width and 240㎚±20㎚-height nickel grating stamper for the injection molding pattern.
#100㎚ Nickel Stamper(100 나노급 니켈 스탬퍼) #High Aspect Ratio(고종횡비) #E-beam Lithography(전자빔 노광공정) #Cr/Qz Mask(크롬/퀄츠 마스크) #Nickel Electroplating(니켈 도금)

목차

Abstract
1. 서론
2. 나노 그레이팅 패턴의 설계
3. 나노 그레이팅 패턴의 제작 및 결과
4. 결론
후기
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