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대한기계학회 대한기계학회 논문집 A권 대한기계학회논문집 A권 제28권 제11호
발행연도
2004.11
수록면
1,794 - 1,798 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2004

광학 그레이팅의 사출성형제작을 위한 전자빔과 무반사 코팅층이 없는 크롬/퀠츠 마스크를 이용한 고종횡비 100㎚ 급 니켈 스탬퍼의 제작
서영호 ,  최두선 ,  이준형 외 2명 대한기계학회 논문집 A권 2004.11 학술저널
전자빔과 무반사층이 없는 크롬 마스크를 이용한 나노그레이팅 사출성형용 고종횡비 100㎚ 급 니켈 스템퍼의 제작
서영호 ,  최두선 ,  이준형 외 2명 대한기계학회 춘추학술대회 2004.04 학술대회자료

초록· 키워드

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We present a fabrication method of high aspect ratio 100nm-scale nickel stamper using e-beam writing for the injection molding of optical grating patterns. Conventional nickel stamper is fabricated by nickel electroplating process which is followed by seed layer deposition. In this paper, we have used chrome coated blank mask without anti-reflection layer of CrON in order to simplified electroplating process. In experimental study, we have optimized electron-beam dosage for 100nm-scale optical grating patterns with 2.5-aspect ratio, and fabricated nickel stamper using above grating patterns as PR mold. Fabricated nickel stamper have showed height of 240±20nm and width of 116±6nm.

목차

Abstract

1. 서론

2. 설계

3. 제작공정 및 제작결과

4. 결론

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