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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2004.10
수록면
11 - 14 (4page)

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This work presents a simple and cost-effective approach for maskless fabrication of positive-tone silicon master for the replica molding of hyperfine elastomeric channel. Positive-tone silicon masters were fabricated by a maskless fabrication technique using the combination of nanoscratch by Nanoindenter® XP and KOH wet etching. Grooves were machined on a silicon surface coated with native oxide by ductile-regime nanoscratch, and they were etched in a 20 wt% KOH solution. After the KOH etching process, positive-tone structures resulted because of the etch-mask effect of the amorphous oxide layer generated by nanoscratch. The size and shape of the positive-tone structures were controlled by varying the etching time (5, 15, 18, 20, 25, 30 min) and the normal loads (1, 5 mN) during nanoscratch. Moreover, the effects of the Berkovich tip alignment (0, 45°) on the deformation behavior and etching characteristic of silicon material were investigated.
#Si(100)(실리콘 (100)) #Ductile-regime nanoscratch(연성영역 나노스크래치) #KOH etching(KOH 식각) #Hillock(융기) #Hyperfine mold(극미세 몰드)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 장비 및 실험
3. 결과 및 토의
4. 결론
후기
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