R.F. plasma assisted CVD로 합성한 BN, BCN 박막의 물성과 구조 연구

김홍석 ,  백영준 ,  최인훈

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .07

삼중 열플라즈마 제트 시스템에서 B와 BN 원료물질을 이용한 질화붕소나노튜브 합성

김민석 ,  오정환 ,  홍승현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Etching characteristics of ZnO thin films using inductively coupled BCl₃ / Ar and Cl₂ / Ar plasma

S-W. Na ,  M-H. Shin ,  Y-M. Chung 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

NH₃/ N₂O / Ar Remote Plasma processing 의한 Si(001)의 plasma oxynitridation에 관한 연구

강신철 ,  오창현 ,  이내응 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

Multi - Cathode Direct Current Plasma Assisted CVD법으로 합성된 다이아몬드막의 열적 및 광학적 특성 연구

이태기 ,  이재갑 ,  백영준 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .07

BCl₃ / O₂/ Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 InP의 건식 식각에 관한 연구

이병택 ,  박철희 ,  김성대 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

1999 .12

비입방정상 질화붕소박막의 기계적 물성에 관한 연구

이성훈 ,  변응선 ,  이건환 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Production of Diamond Below 100℃ - By Plasma CVD Technique -

Akio Hi ,  aki

한국진공학회 학술발표회초록집

1994 .02

레이저 어블레이션에 의한 질화붕소 박막 증착

신건배 ,  박승민 ,  김영만

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .06

도시 대기중에서 NH4NO3 ( s ) - HNO3 ( g ) - NH3 ( g ) 의 평형에 관한 연구 ( A Study on Equilibrium of NH4NO3 ( s ) -HNO3 ( g ) -NH3 ( g ) in Urban Atmosphere )

천만영 ,  강병욱 ,  김희강

한국대기환경학회지(국문)

1992 .09

B_N-결함 질화붕소 나노튜브(BN-BNNT)를 활용한 CO₂ 흡착/전환 반응에 대한 이론 계산 연구

최희철 ,  박영춘 ,  김용현 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .08

열 CVD를 이용한 탄소나노튜브의 성장 및 구조에 대한 C₂H₂ / NH₃의 유량비 의존성

이태재 ,  김정술 ,  최성헌 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .02

도시 대기중에서 NH4NO3 ( s , sq ) - HNO3 ( g ) - NH3 ( g ) 의 평형에 관한 연구 ( II ) ( A Study on Equilibrium of NH4NO3 ( s ) -HNO3 ( g ) -NH3 ( g ) in Urban Atmosphere )

천만영 ,  이영재 ,  김희강

한국대기환경학회지(국문)

1993 .06

Plasma 후처리에 따른 CVD TiN 막의 특성변화

김도형

한국진공학회 학술발표회초록집

1996 .02

할로겐 가스를 이용한 질화붕소나노튜브의 고순도화 열역학적 평형 계산

김민석 ,  오정환 ,  홍승현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

열 CVD법에 의한 GaN nanowire 합성

이철진 ,  류승철 ,  이태재 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .07

Thermal CVD를 이용한 탄소 나노튜브의 합성

신정현 ,  이세종 ,  조성진

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

Diamond CVD 합성에서 핵생성거동에 관한 연구

은광용

한국진공학회 학술발표회초록집

1991 .07

Direct Deposition of microcrystalline Si Films at Low Temperatures (＜200 ℃) by Catalytic CVD

Tae-Hwan Kim ,  Kyung-Min Lee ,  Sunghwan Won 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Stability of gate insulator using NH₃ plasma

이원백 ,  경도현 ,  Nguyen Van Duy 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02