XeCl Excimer Laser Annealing Used to Fabricate Poly-Si TFT`s

T. Sameshima ,  S. Usui

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

XeCl EXCIMER-LASER 이용하여 열처리된 절연막의 특성 분석

박철민 ,  유준석 ,  최홍석 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1996 .07

Fabrication and Characterization of New Carrier Substrates for Laser Lift-off of Large Area Gan Thin Film via XeCl Excimer Laser

이한얼 ,  이승현 ,  이건재

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2014 .04

방전여기 XeCl 엑시머레이저의 제작 및 동작특성

진윤식 ,  이홍식 ,  김희제 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .11

방전여기형 XeCl 엑시머 레이저의 제작 및 동작 특성

李弘植 ,  盧永秀 ,  陳潤植 외 2명

전기학회논문지

1994 .10

TWO DIMENSIONAL NUMERICAL SIMULATION PROGRAM FOR HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON THIN FILM TRANSISTORS

JongS. Choi ,  Ge ,  old W. Neudeck

대한전기학회 학술대회 논문집

1994 .11

Relationship between Secondary Electron Emissions and Film Thickness of Hydrogenated Amorphous Silicon

Sung-Chae Yang ,  Byung-Yoon Chu ,  Seok-Cheol Ko 외 1명

KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications

2004 .08

Improvement of Grain Size by RecryStallization of Double-Layer Amorphous Silicon Films

문대규 ,  이정노 ,  임호빈 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

The Study of a-Si Film Crystallization using an XeCl Laser Annealing on the Plastic Substrate

Kim ,  Do-Young ,  Suh 외 11명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2003 .01

CRYSTALLIZATION OF AMORPHOUS SILICON USING EXCIMER LASER ANNEALING (ELA) ON POLY BSF LAYER OF CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELL

Dong Gi SHIN ,  Kyoung Soo JANG ,  Hee Jun PARK 외 2명

AFORE

2017 .11

Heat Treatment with High Pressure Water Vapor of Hydrogenated Amorphous Silicon

Hi ,  oshi Sato ,  William Makoto Nakamu 외 10명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

이중 활성층 ( a-Si/a-SiNx ) 의 XeCl 엑시머 레이저 어닐링 효과 ( Excimer Laser Annealing Effects of Double Structured Poly-Si Active Layer )

최홍석 ,  박철민 ,  전재홍 외 2명

전자공학회논문지-D

1998 .06

Emission Properties from Induced Structural Degradation of a-C:H Thin Film

Young-Zo Yoo ,  송정환

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Electrical Properties of Doped and Undoped Hydrogenated Amorphous Silicon

Jin-Seok Pa ,  k ,  Min-Koo Han 외 1명

JOURNAL OF KIEE

1988 .03

Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) Thin Film as Intrinsic Passivation Layer for Application of Heterojunction Solar Cells and Annealing Effect

Minsung Jeon ,  Kazuki Kawachi ,  Piyasak Supaja 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

전자빔 여기 KrF / XeCl 레이저의 개발 ( Development of Electron-Beam Excited KrF / XeCl Lasers )

이주희 ,  최부연 ,  김웅

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

전자빔 여기 KrF/XeCl 레이저의 개발

이주희 ,  최부연 ,  김웅

대한전기학회 학술대회 논문집

1987 .07

Excimer laser를 이용한 글라스의 기계적 특성

이강택 ,  문필용 ,  진현주 외 2명

한국소성가공학회 학술대회 논문집

2005 .10

Hydrogenated Amorphous Carbon Film Prepared by Anode Layer Ion Source

Seunghun Lee ,  Ki-Taek Kim ,  Do-Geun Kim 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

전자빔 여기 KrF 및 XeCl 레이저의 반응기구 해석 ( Analysis Of Reaction Kinetics For E-Beam KrF And XeCl Lasers )

최부연 ,  이주희

대한전자공학회 학술대회

1987 .07