Physically-Based Three-Dimensional Ion Implant Modeling and Simulation for ULSI CMOS Process Technology Development and Manufacturing

Myung-Sik Son ,  Ho-Jung Hwang

대한전자공학회 학술대회

1997 .06

GSI소자 개발을 위한 극 저 에너지 이온 주입에 대한 분자 역학 시뮬레이션 ( Molecular dynamics simulation of ultra-low energy ion implantation for GSI device technology development )

강정원 ,  손명식 ,  황호정

전자공학회논문지-D

1998 .03

ULSI CMOS 공정 기술 개발 및 제조를 위한 물리적 토대의 3차원 이온 주입 공정 모델링 및 시뮬레이션 ( Physically-Based Three-Dimensional Implant Modeling and Simulation for ULSI CMOS Process Technology Development and Manufacturing )

손명식 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1997 .07

ULSI Cell Technology

윤찬수 ,  황창규

전자공학회지

1992 .05

GSI급 MOS Transistor 개발을 위한 HEI (High-Energy Ion Implantation) 공정 분석 시뮬레이터 개발

손명식 ,  박수현 ,  이영직 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1999 .06

A Study on the 3-Dimensional Integrated Process Simulation for GSI Semiconductor Device Development

조상래 ,  손명식 ,  변기량 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Future ULSI Device Using SOI Technology

Chang G. Hwang

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1991 .01

SPUTTERING TECHNOLOGY FOR ULSI REQUIREMENTS

Ma ,  v Felcheck

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

Failure Analysis of ULSI Memory Devices Using Focused Ion Beams

Chung Tae Kim ,  Ho Joung Kim ,  Young Min Oh

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

Diffusion / Ion Implantation

송성해

대한전자공학회 단기강좌

1982 .01

A Study on Development of Advanced Environmental-Resistant Materials Using Metal Ion Processing

Kazuhisa Fujita ,  Hae-Ji Kim

Journal of Mechanical Science and Technology

2006 .10

낮은 에너지의 As₂^(+) 이온 주입을 이용한 얕은 n^(+)-p 접합을 가진 70nm NMOSFET의 제작 ( 70nm NMOSFET Fabrication with Ultra-shallow n+-p Junctions Using Low Energy As₂^(+) Implantations )

최병용 ,  성석강 ,  이용덕 외 1명

전자공학회논문지-SD

2001 .02

Q:GSI란 무엇이며 RMR이나 Q와 차이점은 무엇인가? GSI를 암반공학에 어떻게 적용하는가?

이근채

대한토목학회지

2011 .03

Technology and Reliability Aspects of Ultra Thin Dielectrics for ULSI Applications

Dim Lee Kwong

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1993 .01

Three-Dimensional Full-Dynamic Damage Model for Ion Implantation into Crystalline Silicon

손명식 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

이온주입 제어에 의한 재료특성 개선에 관한 연구

양영준 ,  이치우 ,  후지타 카즈히사

Journal of Advanced Marine Engineering and Technology (JAMET)

2008 .11

Thermal Nitride for Future ULSI Applications

신형철 ,  최석진 ,  이귀로

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Denudation 열처리가 ULSI device의 전기적 특성에 미치는 영향의 평가

조원주 ,  이교성 ,  송영민

대한전자공학회 학술대회

1998 .11

Denudation 열처리가 ULSI device의 전기적 특성에 미치는 영향의 평가 ( Effects of denudation anneals on the electrical properties of ULSI devices )

조원주 ,  이교성 ,  송영민

대한전자공학회 학술대회

1998 .11

Technology Trend of Ion Implantation Applications in CMOS Fabrication

심규하 ,  김용길

전자공학회지

2001 .08