고온 증착이 가능한 신규 La 전구체와 discrete feeding method를 도입한 ALD La₂O₃박막의 성장 거동 및 전기적 특성 개선

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저자정보: Min Soo Shin (Hanyang University) Jae chan Park (Hanyang University) Yong min Go (Korea Research Institute of Chemical Technology) Woo-Hee kim (Hanyang University) Ji-Hoon Ahn (Hanyang University) Bo Keun Park (Korea Research Institute of Chemical Technology) Tae Joo Park (Hanyang University)

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#atomic layer deposition #lanthanum oxide #gate dielectric #novel precursor #discrete feeding method

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