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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2024.10
- 수록면
- 774 - 782 (9page)
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The photochemical acid generation is refined from the first principles of quan-tum electrodynamics. First, we briefly review the formulation of the quantum theory of light based on the quantum electrodynamics framework to establish the probability of acid generation at a given spacetime point. The quantum mechanical acid generation is then combined with the deprotection mecha-nism to obtain a probabilistic description of the deprotection density directly related to feature formation in a photoresist. A statistical analysis of the ran-dom deprotection density is presented to reveal the leading characteristics of stochastic feature formation.
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