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저자정보
이형우 (서울대학교) 김무영 (서울대학교) 박성우 (서울대학교) 문정환 (서울대학교) 이병훈 (삼성전자) 정창영 (삼성전자) 조맹효 (서울대학교)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2018년도 학술대회
발행연도
2018.12
수록면
1,873 - 1,876 (4page)

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During photolithography process of semiconductor fabrication, photodecomposable quencher (PDQ) in chemically amplified photoresist neutralizes acid generated by secondary electron upon photo irradiation. Through this acid-base reaction, PDQ facilitates pattern quality improvement on semiconductor. In our previous study, we developed a multiscale model for 2 components system consisting of photoresist and photoacid generator. Herein, we proposed a newly developed 3 components system including PDQ to identify the effect of PDQ. The multiscale model based on density functional theory, molecular dynamics, and continuum dynamics reflects the chemical reaction including acid generation/diffusion, deprotection, quenching. By using this model, we compared pattern morphology between the two systems and confirmed effect of PDQ.
#density functional theory(밀도범함수이론) #photodecomposable quencher(퀜쳐) #EUV #PEB #photolithography(포토리소그래피) #photoresist(포토레지스트)

목차

Abstract
1. 서론
2. 연속체 스케일 전산 모사
3. 결과
4. 결론
참고문헌

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