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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.10
- 수록면
- 93 - 93 (1page)
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Poly(4-hydroxystyrene)-based protected polymer is generally used as a photoresist material because of its good transmittance and low absorption rate so that a pattern can be formed up to the interface of the resist substrate. The purpose of this study is to synthesize poly(4-hydroxystyrene)-based copolymers by anionic polymerization that can control the polymer structure, molecular weight, and molecular weight distribution, and to evaluate the ... 전체 초록 보기
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