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저자정보
Lee Jae Hyuk (Seoul National University of Science and Technology) Na Minho (Seoul National University of Science and Technology) Kim Jiyeop (Seoul National University of Science and Technology) 유강은 (서울과학기술대학교) Park Jaekyu (Seoul National University of Science and Technology) Kim Jeong Dae (Seoul National University of Science and Technology) Oh Dong Kyo (Seoul National University of Science and Technology) 이승조 (서울과학기술대학교) 윤홍석 (한밭대학교) Kwak Moon Kyu (Kyungpook National University) 옥종걸 (서울과학기술대학교)
저널정보
나노기술연구협의회 Nano Convergence Nano Convergence Vol.4 No.11
발행연도
2017.5
수록면
1 - 5 (5page)
DOI
10.1186/s40580-017-0105-2

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We present a facile and scalable coating method based on controlled airbrushing, which is suitable for conformal resin coating in continuous roll-to-roll (R2R) nanoimprint lithography (NIL) process. By controlling the concentration of UV-curable polymeric resin with mixing the volatile solvent and its airbrushing time, the coated resin film thickness can be readily tuned. After R2R NIL using a flexible nanoscale line pattern (nanograting) mold is conducted upon the airbrushed resin film, a large-area uniform nanograting pattern is fabricated with controlled residual layer thickness (RLT) based on the initial film thickness. We investigate the faithful airbrushing condition that can reliably create the uniform thin films as well as various nanopatterns with controlled morphologies. Using more diluted resin and shorter airbrushing time can reduce the RLTs favourably for many applications, yet is apt to induce the nanoscale pores and discontinued lines. We also discuss how to further improve the quality and scalability of resin airbrushing and its potential applications particularly requiring high-speed and conformal coating on highly topographic and flexible surfaces.
#Airbrushing Thin film Nanopattern Roll-to-roll nanoimprint lithography Residual layer thickness Conformal coating

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S. H. Ahn / 2008 / Adv. Mater 20:2044~2049 google schola S. H. Ahn / 2009 / ACS Nano 3:2304~2310 google schola J. G. Ok / 2013 / J. Mater. Chem. C 1:7681~7691 google schola N. Kooy / 2014 / Nanoscale Res. Lett 9:320~332 google schola S. H. Ahn / 2007 / J. Vac. Sci. Technol. B 25:2388~2391 google schola

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