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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
Yun Seop Yu (Georgia Institute of Technology) Sung Kyu Lim (Hankyong National University)
저널정보
한국정보통신학회JICCE Journal of information and communication convergence engineering Journal of information and communication convergence engineering Vol.14 No.1
발행연도
2016.3
수록면
40 - 44 (5page)

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The device coupling between the stacked top/bottom field-effect transistors (FETs) in two types of monolithic 3D inverter (M3INV) with/without a metal layer in the bottom tier is investigated, and then the regime of the thickness T<SUB>ILD</SUB> and dielectric constant ε<SUB>r</SUB> of the inter-layer distance (ILD), the doping concentration N<SUB>d</SUB> (N<SUB>a</SUB>), and length L<SUB>g</SUB> of the channel, and the side-wall length L<SUB>SW</SUB> where the stacked FETs are coupled are studied. When N<SUB>d</SUB> (N<SUB>a</SUB>) < 10<SUP>16</SUP> ㎝<SUP>-3</SUP> and LSW < 20 ㎚, the threshold voltage shift of the top FET varies almost constantly by the gate voltage of the bottom FET, but when N<SUB>d</SUB> (N<SUB>a</SUB>) > 10<SUP>16</SUP> ㎝<SUP>-3</SUP> or L<SUB>SW</SUB> > 20 ㎚, the shift decreases and increases, respectively. M3INVs with T<SUB>ILD</SUB> ≥ 50 ㎚ and ε<SUB>r</SUB> ≤ 3.9 can neglect the interaction between the stacked FETs, but when T<SUB>ILD</SUB> or ε<SUB>r</SUB> do not meet the above conditions, the interaction must be taken into consideration.

목차

Abstract
Ⅰ. INTRODUCTION
Ⅱ. DEVICE CHARACTERISTICS OF THE M3INV
Ⅲ. DEVICE COUPLING IN THE M3INV
Ⅳ. CONCLUSIONS
REFERENCES

참고문헌 (14)

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2023-004-000404151