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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.11
- 수록면
- 157 - 157 (1page)
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Blank masks are the original plates of photo masks in the lithography process and have been broadly used in the semiconductor manufacturing process. To optimize the performance of semiconductor chips and reduce the inspection time, thickness and surface shape of the blank mask should be simultaneously measured with nanoscale accuracy. Wavelength-scanning interferometry has been widely used for thickness and surface shape measurements of the blank mask because of its non-contact and high-resolution measurements. However, measurement accuracy suffers from harmonics of the signals and nonlinear wavelength scanning. In this study, a harmonic phase-iterative algorithm that uses seven-frame interferograms was develo ... 전체 초록 보기
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