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저자정보
장진규 (울산대학교) 김현진 (울산대학교) 최재욱 (울산대학교) 이연학 (울산대학교) 공영민 (울산대학교) 허성보 (한국생산기술연구원) 김유성 (한국생산기술연구원) 김대일 (울산대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제54권 제6호
발행연도
2021.12
수록면
302 - 306 (5page)

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SnO₂ 30/Ag 15/SnO₂ 30 ㎚(SAS) tri-layer films were deposited on the glass substrates with RF and DC magnetron sputtering and then electron beam is irradiated on the surface to investigate the effect of electron bombardment on the opto-electrical performance of the films. electron beam irradiated tri-layer films at 1000 eV show a higher figure of merit of 2.72×10<SUP>-3</SUP> Ω<SUP>-1</SUP> than the as deposited films due to a high visible light transmittance of 72.1% and a low sheet resistance of 14.0 Ω/□, respectively. From the observed results, it is concluded that the post-deposition electron irradiated SnO₂ 30/Ag 15/SnO₂ 30 ㎚ tri-layer films can be used as a substitute for conventional transparent conducting oxide films in various opto-electrical applications.
#SnO₂ #Ag #Electron irradiation #X-ray diffraction #Figure of merit

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (13)

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A. Mehmood, A. Alihaidry, X. Long, X. Zhang, Appl. Surf. Sci. 536 (2021) 147873. google schola G. Bang, D. Choi, Korean J. Met. Mater., 59 (2021) 155-161. google schola D. Kim, J. Kor. Soc. Heat. Treat., 24 (2011) 140-143. google schola T. Lai, T. Fang, C. Chan, Y. Hsiao, Vacuum 166 (2019) 155-161. google schola A. Abliz, D. Wan, L. Yang, M. Mamat, H. Chen, Mater. Sci. Semicon. Process, 95 (2019) 54-58. google schola

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