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김한길 (영남대학교) 김수현 (영남대학교) 고경용 (연세대학교) 김형준 (연세대학교) 김재훈 (한국과학기술원) 오지훈 (한국과학기술원) 이한보람 (인천대학교)
저널정보
대한금속·재료학회 Electronic Materials Letters Electronic Materials Letters Vol.12 No.3
발행연도
2016.1
수록면
404 - 410 (7page)

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A highly efficient n-Si/p-Cu2O core-shell (C-S) nanowire (NW)photodiode was fabricated using Cu2O grown by atomic layer deposition(ALD) on a well-ordered Si NW array. Ordered Si nanowires arrayswere fabricated by nano-sphere lithography to pattern metal catalystsfor the metal-assisted etching of silicon, resulting in a Si NW arrayswith a good arrangement, smooth surface and small diameterdistribution. The ALD-Cu2O thin films were grown using a new nonfluorinatedCu precursor, bis(1-dimethylamino-2-methyl-2-butoxy)copper(C14H32N2O2Cu), and water vapor (H2O) at 140°C. Transmissionelectron microscopy equipped with an energy dispersive spectrometerconfirmed that p-Cu2O thin films had been coated over arrayed Si NWswith a diameter of 150 nm (aspect ratio of ~7.6). The C-S NWphotodiode exhibited more sensitive photodetection performance underultraviolet illumination as well as an enhanced photocurrent density inthe forward biasing region than the planar structure diode. The superiorperformance of C-S NWs photodiode was explained by the lowerreflectance of light and the effective carrier separation and collectionoriginating from the C-S NWs structure.

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