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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.9
- 수록면
- 49 - 56 (8page)
- DOI
- 10.14801/jkiit.2021.19.9.49
이용수
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최근 스마트폰 기기 시장이 성장하면서 고해상도 카메라가 빠질 수 없는 요구사항 중 하나가 되었다. 이미지 센서의 칩 면적은 카메라 모듈사이즈에 한정되어 있기 때문에 픽셀 사이즈는 계속해서 감소하는 추세이다. 하지만 픽셀 사이즈의 감소는 감도의 열화와 크로스톡의 증가와 같은 이미지 센서의 광학 성능을 저하시키는 결과를 초래한다. 본 논문에서는 고감도 소형 픽셀 구현을 위해 1.0μm 이하의 작은 픽셀에서 Deep Trench Isolation(DTI)을 가지는 픽셀 광학 구조에 대해 최적화를 진행하였다. 범용 광학 시뮬레이터를 이용해 0.8μm픽셀의 DTI 폭, 높이, 물질 등, DTI 구조를 다양하게 변화시켜 검토하였으며, 이에 따라 기존 구조 대비 최대 17.7% 감도를 개선할 수 있는 구조를 도출할 수 있었다.
목차
요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 고감도 픽셀을 위한 DTI 구조
Ⅲ. 시뮬레이션 결과
Ⅳ. 결론
References
참고문헌 (13)
참고문헌 신청
S. Takahashi / 2017 / A 45 nm stacked CMOS Image Sensor Process Technology for Submicron Pixel / Sensors 17(12):2816~2828
P. B. Catrysse / 2003 / Integrated color pixels in 0.18-μm complementary metal oxide semiconductor technology / Journal of the Optical Society of America A 20(12):2293~2306
H. K. Kim / 2013 / Development of lensed color filter technology for higher SNR and lower crosstalk CMOS image sensor / Proceedings of International Image Sensor Workshop :12~16
J. K. Lee / 2016 / Efficiency enhancement in a backside illuminated 1.12μm pixel CMOS image sensor via parabolic color filters / Optics express 24(14):16027~16036
R. Fontaine / 2015 / The state of the art of main-stream CMOS image sensors / Proceedings of the International Image Sensors Workshop :6~12
P. B. Catrysse / 2003 / Integrated color pixels in 0.18-μm complementary metal oxide semiconductor technology / Journal of the Optical Society of America A 20(12):2293~2306
H. K. Kim / 2013 / Development of lensed color filter technology for higher SNR and lower crosstalk CMOS image sensor / Proceedings of International Image Sensor Workshop :12~16
J. K. Lee / 2016 / Efficiency enhancement in a backside illuminated 1.12μm pixel CMOS image sensor via parabolic color filters / Optics express 24(14):16027~16036
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