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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.6
- 수록면
- 74 - 74 (1page)
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Zinc oxide (ZnO) is a transparent wide-band gap semiconductor material that is used in various applications such as thin film transistors (TFTs), gas sensors, and catalysts. Atomic layer deposition (ALD) of ZnO is widely applied due to the ability to form conformal high-quality thin films at sub-nm level. Most previous studies on ZnO ALD utilized a few well-known precursors such as diethylzinc (DEZ), together with H<SUB>2</SUB>O, O<SUB>3</SUB>, or O<SUB>2</SUB> plasma as oxidants. However, these oxidants have relatively strong reactivity, so that they are not suitable for substrates that are easily oxidized or reactive with water. Therefore, development of nonaqueous and mild alternati ... 전체 초록 보기
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