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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.4
- 수록면
- 81 - 81 (1page)
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Extreme ultraviolet light at 13.5 nm can implement finer circuit patterns than ArF (193 nm) light sources, but the number of photons absorbed per unit area is only 1/14, which deteriorates the characteristics of the resist. We synthesized a molecular material having a cyclic acetal structure using three benzaldehyde derivatives based on the vascular contrast agent molecule for computed tomography (CT) containing a lot of iodine with high absorbance. The synthesized materia ... 전체 초록 보기
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