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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.4
- 수록면
- 31 - 31 (1page)
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The development of large-area, high-resolution nano-patterning with high-aspect-ratios is a challenging problem that must be solved for potential applications in high performance nanoscale devices. To date, soft-, e-beam and soft-building block-lithography have been primarily used in such applications. Here, we describe two new patterning techniques that enables fabrication of ultra high-resolution and high-aspect-ratio patterns of various shapes. First, we introduce an advanced ultrahigh-r ... 전체 초록 보기
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