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저자정보
윤길상 (포항공과대학교 전자전기공학과) 이준영 (포항공과대학교 전자전기공학과) 박익수 (포항공과대학교 전자전기공학과) 백록현 (포항공과대학교 전자전기공학과) 신현진 (포항공과대학교 전자전기공학과) 이정수 (충남대학교 수의학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제17권 제3호
발행연도
2018.1
수록면
36 - 40 (5page)

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We have developed a nonlithographic patterning technique using polystyrene nanoparticles to form nanonet channel structures which is promising for high-performance TFT applications. Nanoparticles assisted patterning (NAP) is a technique to form uniform nano-patterns by applying lift-off and dry etch process. Oxygen plasma treatment was used to control the diameters of nanonet hole size to realize a branch width down to 100 nm. NAP technology can be very promising to fabricate nanonet structure with advantages of lower manufacturing cost and large-area patterning capability.
#Polystyrene bead #Nanoparticle #Nanonet structure #TFT #$O_2$ plasma

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