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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
이우영 (한국기술교육대학교 기계공학부) 김남웅 (동양미래대학교 기계공학부) 김동현 (순천향대학교 공과대학 기계공학과) 김국원 (순천향대학교 공과대학 기계공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제14권 제3호
발행연도
2015.1
수록면
61 - 66 (6page)

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Recently, the major trends of NIL are high throughput and large area patterning. For UV NIL, if it can be proceeded in the non-vacuum environment, which greatly simplifies tool construction and greatly shorten process times. However, one key issue in non-vacuum environment is air bubble formation problem. In this paper, numerical analysis of bubble defect of UV NIL is performed. Fluent, flow analysis focused program was utilized and VOF (Volume of Fluid) skill was applied. For various resist-substrate and resist-mold angles, effects of velocity inlet and residual layer thickness of resist on bubble defect formation were investigated. The numerical analyses show that the increases of velocity inlet and residual layer thickness can cause the bubble defect formation, however the decreases of velocity inlet and residual layer thickness take no difference in the bubble defect formation.
#Resist layer thickness #Velocity inlet #Bubble #Nanoimprint Lithography #NIL)

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참고문헌 (8)

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김국원 / 2010 / A Study on the Uniformity Improvement of Residual Layer of a Large Area Nanoimprint Lithography / 반도체디스플레이기술학회지 9(4):19~23 google schola 김국원 / 2013 / 대면적 UV 임프린팅 공정에서 잔류층 두께 예측 / 반도체디스플레이기술학회지 12(2):79~84 dbpia Morihara, D. / 2009 / Numerical study on bubble trapping in UV-nanoimprint lithography / Microelectronic Engineering 86(4-6):684~687 google schola Nagaoka, Y / 2009 / Simulation study on bubble trapping in UV nanoimprint lithography / Journal of Photopolymer Science and Technology 22(2):171~174 google schola Liang, X / 2007 / Air bubble formation and dissolution in dispensing nanoimprint lithography / Nanotechnology 18(2):1~7 google schola

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