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학술저널
저자정보
Chung, Hoon-Ju (School of Electronic Engineering, Kumoh National Institute of Tech-nology) Kim, Dae-Hwan (P-Si Process Integration Team, LG. Philips LCD Co., Ltd) Kim, Byeong-Koo (P-Si Process Integration Team, LG. Philips LCD Co., Ltd)
저널정보
한국정보디스플레이학회 Journal of information display Journal of information display 제6권 제4호
발행연도
2005.1
수록면
6 - 10 (5page)

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The dependence of hysteresis characteristics in low temperature poly-Si (LTPS) thin film transistors (TFTs) on the gate-source voltage (Vgs) or the drain-source voltage (Vds) bias is investigated and discussed. The hysteresis levels in both p-type and n-type LTPS TFTs are independent of Vds bias but increase as the sweep range of Vgs increases. It has been found that the hysteresis in both p-type and n-type LTPS TFTs originated from charge trapping and de-trapping in the channel region rather than at the source/drain edges.

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