A five mask CMOS LTPS process with LDD and only one ion implantation step

Schalberger, Patrick; Persidis, Efstathios; Fruehauf, Norbert

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Schalberger, Patrick (Chair of Display Technology, University of Stuttgart) Persidis, Efstathios (Chair of Display Technology, University of Stuttgart) Fruehauf, Norbert (Chair of Display Technology, University of Stuttgart)

저널정보: 한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display

발행연도: 2006.1

수록면: 1,645 - 1,648 (4page)

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We have developed a CMOS LTPS process, which requires only five photolithographic masks and only one ion doping step. Single TFTs, inverters, ring oscillators and shift registers were fabricated. N- and p-channel devices reached field effect mobilities of $173cm^2/Vs$ and $47cm^2/Vs$, respectively.

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소속기관 Chair of Display Technology, Universitat Stuttgart

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Persidis, Efstathios

소속기관 Chair of Display Technology, Universitat Stuttgart

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Fruehauf, Norbert

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