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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
손성완 (알엠에스 테크놀로지 주식회사) 이홍기 (알엠에스 테크놀로지 주식회사) 백재호 (알엠에스 테크놀로지 주식회사)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체장비학회지 한국반도체장비학회지 제2권 제2호
발행연도
2003.1
수록면
25 - 30 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2003

반도체 초정밀장비의 진동허용규제치를 고려한 지지구조의 동특성 개선에 관한 연구
손성완 ,  이홍기 ,  백재호 한국반도체장비학회지 2003.01 학술저널
반도체 초정밀장비의 진동허용규제치를 고려한 지지구조의 동특성 개선에 관한 연구
손성완 ,  이홍기 ,  백재호 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2003.01 학술대회자료

초록· 키워드

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In the case of a vibration sensitive equipment, it require a vibration free environment to provide its proper function. Especially, lithography and inspection device, which have sub-nanometer class high accuracy and resolution, have come to necessity for producing more improved Giga Class semi conductor wafers. This high technology equipments require very strict environmental vibration criteria in proportion to the accuracy of the manufacturing. In this paper, the dynamic analysis and modal test were performed to evaluate the dynamic properties of the constructing clean room structure. Based on these results, a structural dynamic modification(SDM) were required to satisfiy the vibration allowable limit for pression machine. Therefore, in order to improve the dynamic stiffness of clean room structure, the VSD system which can control the force applied on structure, were adopted and its utility were proved from dynamic test results of the improved structure after a modification work.
#vibration sensitive equipment #vibration criteria #dynamic analysis and modal test #structural dynamic modification #SDM) #VSD system

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