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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
전성우 (한양대학교 화학공학과) 곽현 (한양대학교 화학공학과) 배성렬 (한양대학교 화학공학과)
저널정보
한국막학회 멤브레인 멤브레인 제13권 제2호
발행연도
2003.1
수록면
73 - 80 (8page)

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폴리메틸펜텐 막(polymethylpentene membrane, PMP)을 Ar, NH_3$ 플라즈마로 표면 처리하고, 처리 전후의 투과 도와 선택도의 변화를 관찰하였다. Ar 플라즈마로 처리하였을 때 O/C의 비율이 증가하며 친수성기 (OH, COOH, C=O)의 도입이 확인되었고 $NH_3$ 플라즈마로 처리하였을 때 아민, 아미노기가 도입되었다. 플라즈마 처리된 폴리메틸펜텐막에서 $CO_2$의 투과도와 $N_2$,에 대한 선택도 (Actual Separation Factor)의 최적조건은 Ar 플라즈마 처리 (30 W-6 min)의 경우 각각 182 Barrer [$10^{-10}\;cm^3(STP)cm/cm^2$.s.cmHg]와 6.17이며, $NH_3$, 플라즈마 처리 (30 W-8 min)의 경우 각각 144 Barrer [$10^{-10}/cm^2(STP)cm/cm^2$.s.cmHg] 와 6.13을 얻었다.

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