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저자정보
선종원 (충남대학교 금속공학과) 김형섭 (충남대학교 금속공학부) 지봉기 (성균관대학교 신소재공학과) 박해웅 (한국기술교육대학교 신소재공학과) 홍계원 (한국산업기술대학교 에너지대학원) 박순동 (한국원자력연구소) 정충환 (한국원자력연구소) 전병혁 (한국원자력연구소) 김찬중 (한국원자력연구소)
저널정보
한국초전도저온학회 한국초전도·저온공학회논문지 한국초전도·저온공학회논문지 제4권 제2호
발행연도
2002.1
수록면
5 - 10 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

2003

MOCVD 법에 의해 증착 된 coated conductor용 $YBa_{2}$$Cu_{3}$$O_{7-x}$의 증착조건
선종원 ,  전병혁 ,  김찬중 한국초전도저온공학회 학술대회 2003.01 학술대회자료

2002

2축 정렬된 Ni 위에 MOCVD법에 의한 NiO의 증착조건
선종원 ,  김형섭 ,  지봉기 외 6명 한국초전도·저온공학회논문지 2002.01 학술저널
2축 정렬된 Ni 선재 위에 MOCVD법에 의한 NiO의 조직 및 표면 분석
선종원 ,  김형섭 ,  지봉기 외 6명 한국초전도저온공학회 학술대회 2002.01 학술대회자료

2001

YBCO 초전도 선재를 위한 결정축이 정렬된 Ni 기판위에 NiO 완충층 제조
선종원 ,  김형섭 ,  김찬중 외 2명 한국초전도학회 High Temperature Superconductivity 2001.01 학술대회자료

초록· 키워드

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Deposition condition of NiO that is one of Possible buffer layers for YBCO coated conductors was studied. NiO was deposited on textured Ni substrates by a MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition) method. The degree of texture, and the surface roughness were analyzed by X-ray Pole figure, atomic force microscope and scanning electron microscope. The (111) and (200) textures were competitively developed , depending on an oxygen partial Pressure(PO2) and deposition temperature (Tp). The (200) textured NiO layer was deposited at Tp=450~47$0^{\circ}C$ and PO2= 1.67 Torr Out-of-Plane ($\omega$-scan) and in-plane ($\Phi$-scan) textures of the (200) NiO films were as good as 10.34$^{\circ}$ and 10.00$^{\circ}$ respectively The AFM surface roughness of NiO was in the range of 3~4.5 nm at PO2=0.91~3.34 Torr and at Tp=47$0^{\circ}C$ , and in the range of 3~13 nm at TP=450~53$0^{\circ}C$ and at PO2=1.67 Torr.
#NiO #MOCVD

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