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저자정보
노효섭 (조선대학교) 배인수 (조선대학교) 정훈택 (동신대학교) 이수선 (조선대학교) 홍광준 (조선대학교) 이현규 (조선대학교) 박진성 (조선대학교)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제11권 제4호
발행연도
2001.1
수록면
272 - 277 (6page)

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WO$_3$에 NiO를 첨가하여 제조한 후막형 시편의 미세구조와 전기적 성질에 대해 연구하였다. NiO 첨가에 따른 WO$_3$의 결정립 성장이 억제되었고, 입도 분포도 균일하였으나 첨가량에 따른 결정립 크기 변화정도는 작았다. 산소 분압 감소로 WO$_3$의 전도성은 증가하였고, NiO 첨가에 의해 고용한계 이하에서는 전도성이 증가하였고, 이상에서는 전도성이 감소하였다. 온도 증가에 따라 외인성 (extrinsic) 구간에서는 전도성 변화가 적었고, 고온의 진성 (intrinsic) 구간에서는 전도도가 급격히 증가하였으며, 이들의 중간 온도에서는 산소흡착에 따라 전도도가 감소하였다.
#NiO-doped WO $_3$ #Oxygen partial pressure #Conductance #Particle size

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