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자료유형
학술저널
저자정보
안강호 (한양대학교 기계공학과) 안진홍 (한양대학교 대학원) 이관수 (한양대학교 기계공학부) 임광옥 (한양대학교 기계공학부) 강윤호 (삼성종합기술원)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제4권 제1호
발행연도
2005.1
수록면
49 - 53 (5page)

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The nanoparticle deposition chamber, which is used for quantum dot semiconductor memory applications, is designed by means of numerical simulation. In this research, the numerical simulations for deposition chamber were performed by commercial software, FLUENT. The deposition of nanoparticles is calculated by diffusion force, thermophoresis and electrophoresis of particles. As a results, when the diffusion force was considered, the most of particles deposited in the wall of deposition chamber. But as considering thermophoresis and electrophoresis of particles, the particles were deposited wafer surface, perfectly.
#Deposition Chamber #Diffusion #Electrophoresis #Nanoparticles #Numerical Simulation #Thermophoresis #Wafer

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