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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2007년도 춘계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2007.5
수록면
3,305 - 3,309 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2007

반도체 세정 공정 평가를 위한 나노입자 안착 시스템 개발
남경탁 ,  김호중 ,  김태성 대한기계학회 춘추학술대회 2007.05 학술대회자료
반도체 세정 공정 평가를 위한 나노입자 안착 시스템 개발
남경탁 ,  김영길 ,  김호중 외 1명 반도체및디스플레이장비학회지 2007.01 학술저널
반도체 세정 공정 평가를 위한 나노입자 안착 시스템 개발
남경탁 ,  김호중 ,  김영길 외 1명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2007.01 학술대회자료

초록· 키워드

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As the minimum feature size decreases, control of contamination by nanoparticles is getting more attention in semiconductor process. Cleaning technology which removes nanoparticles is essential to increase yield. A reference wafer on which particles with known size and number are deposited is needed to evaluate the cleaning process. We simulated particle trajectories in the chamber by using FLUENT and designed a particle deposition system which consists of scanning mobility particle sizer (SMPS) and deposition chamber. Charged monodisperse particles are generated using SMPS and deposited on the wafer by electrostatic force. The experimental results agreed with the simulation results well in terms of particle number and deposition area according to particle size, flow rate and deposition voltage.
#Contamination(오염) #Nanoparticle(나노입자) #Cleaning(세정) #Deposition(안착)

목차

Abstract
1. 서론
2. 수치적 해석
3. 실험적 해석
4. 실험 결과
5. 결론
후기
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