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학술대회자료
저자정보
남경탁 (성균관대학교 기계공학과) 김호중 (성균관대학교 성균나노과학기술원) 김영길 (성균관대학교 기계공학과) 김태성 (성균관대학교 기계공학부 & 성균나노과학기술원)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2007년도 춘계학술대회
발행연도
2007.1
수록면
128 - 131 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2007

반도체 세정 공정 평가를 위한 나노입자 안착 시스템 개발
남경탁 ,  김호중 ,  김태성 대한기계학회 춘추학술대회 2007.05 학술대회자료
반도체 세정 공정 평가를 위한 나노입자 안착 시스템 개발
남경탁 ,  김영길 ,  김호중 외 1명 반도체및디스플레이장비학회지 2007.01 학술저널
반도체 세정 공정 평가를 위한 나노입자 안착 시스템 개발
남경탁 ,  김호중 ,  김영길 외 1명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2007.01 학술대회자료

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As the minimum feature size decrease, control of contamination by nanoparticles is getting more attention in semiconductor process. Cleaning technology which removes nanoparticles is essential to increase yield. A reference wafer on which particles with known size and number are deposited is needed to evaluate the cleaning process. We simulated particle trajectories in the chamber by using FLUENT. Charged monodisperse particles are generated using scanning mobility particle sizer (SMPS) and deposited on the wafer by electrostatic force. The experimental results agreed with the simulation results well. We calculate the particles loss in pipe flow theoretically and compare with the experimental results.

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