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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김행영 (인하대학교 공과대학 화학공학과) 최진섭 (인하대학교 공과대학 화학공학과) 탁용석 (인하대학교 공과대학 화학공학과)
저널정보
한국공업화학회 공업화학 공업화학 제9권 제4호
발행연도
1998.1
수록면
463 - 468 (6page)

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알루미늄의 부식에 있어서 HCI 용액내에 황산을 첨가하는 경우 황산이온의 화학적 흡착에 의한 부식억제 효과가 나타나며, CV (cyclic voltammetry) 실험결과 황산이온은 핏트내부에 보호성 산화피막을 생성함으로서 에치핏트가 핏트내부와 알루미늄 표면에 함께 생성되어 핏트의 밀도가 증가하였다. 알루미늄 교류에칭시에 핏트분포는 황산이온의 농도와 환원전류량에 의하여 크게 영향을 받으며, 환원전류인가시 $0.8mC/cm^2$ 이하의 전하량에서 핏트내부에 생성된 산화피막은 황산이온 농도의 증가에 따라 핏트발생에 대한 저항성이 중가하였으나, $0.8mC/cm^2$ 이상에서는 산화피막내에 국부적인 구조변화가 발생하며 황산이온 농도에 관계없이 산화피막의 파괴가 빠르게 진행되었다.
#Aluminum #AC Etching #Sulfuric Acid #Oxide Films

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