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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
탁용석 (인하대학교 화학공학과) 강진욱 (인하대학교 화학공학과) 최진섭 (한국요업기술원 나노소재팀)
저널정보
한국공업화학회 공업화학 공업화학 제17권 제4호
발행연도
2006.1
수록면
335 - 342 (8page)

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금속 알루미늄의 낮은 환원전위는 전기화학적 산화반응을 통하여 알루미늄과 그 표면에 존재하는 산화막의 구조 및 성질의 변화를 일으킨다. 산성용액에서 알루미늄을 전기화학적으로 에칭하여 표면적을 확대시키고 중성의 용액에서 알루미늄 표면에 치밀한 유전체 산화막을 형성시켜 커패시터의 전극으로 이용하고 있다. 저온의 산성용액에서는 양극산화시 나노크기의 다공층 산화막이 형성되며, 나노구조체의 템플레이트로 사용되고 있다. 이와같은 알루미늄의 전기화학적 특성은 알루미늄을 새로운 기능성을 가진 재료로 변화시킴으로서 다양한 분야에서 응용될 것으로 기대된다.
#aluminum #etching #anodization #pitting corrosion #capacitor

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