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자료유형
학술저널
저자정보
김귀욱 (고려대학교 공과대학 재료금속공학부) 윤우영 (충남대학교 급속응고 신소재 연구센터)
저널정보
한국주조공학회 한국주조공학회지 (주조) 한국주조공학회지 제17권 제6호
발행연도
1997.1
수록면
598 - 607 (10page)

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Fractional melting process involves heating an alloy within its liquid-solid region simultaneously ejecting liquid from the solid-liquid mixture. The extent of the purification obtained is comparable to that obtained in multi-pass zone refining. The new fractional melting process in which centrifugal force was used for separating the liquid from the mixture has been developed and applied to the purification of the metallic grade. Refining ratio depends on partition ratio, cake wetness and diffusion in the solid, and it was controlled by various processing parameters such as rotating speed and heating rate. The new parameter called "refining partition coefficient" has been suggested to estimate the effects of processing variables on the refining ratio. Because major impurities in MG-silicon such as Fe, Al, Ni have a low segregation coefficient, good purification effect is expected. The results of refining MG-silicon(98%) showed that 3N-Si was obtained in refined solid of 50% of the original sample.

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