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이 논문의 연구 히스토리 (4)
1997
PEMOCVD에 의한 강 유전체 $\textrm{SrBi}_{2}\textrm{Ta}_{2}\textrm{O}_{9}$박막의 제조 및 증착온도 특성
성낙진
,
윤순길
한국재료학회지
1997.01
학술저널
플라즈마를 이용한 유기금속 화학증착법에 의한 강 유전체 $\textrm{SrBi}_{2}\textrm{Ta}_{2}\textrm{O}_{9}$ 박막의 제조
성낙진
,
김남경
,
윤순길
한국재료학회지
1997.01
학술저널
Plasma-Enhanced MOCVD법에 의해 MOCVD-Pt 위에 제조된 강 유전체 Sr${Bi}_{2}{Ta}_{2}{O}_{9}$ 박막의 특성
성낙진
,
최은석
,
윤순길
한국재료학회 학술발표대회
1997.01
학술대회자료
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플라즈마를 이용한 유기금속 화학증착법에 의해 $Pt/Ti/SiO_{2}/Si$기판위에 $SrBi_{2}Ta_{2}O_{9}(SBT)$박막이 제조되었다. X-ray회절패턴, 미세구조 및 조성분석으로부터 Sr과 Ta bubbling 온도는 $120^{\circ}C$로 고정되었으며 Bi bubbling온도가 변화되었다. Bi bubbling 온도 $130^{\circ}C$에서 얻어진 SBT 박막의 유전상수 및 유전손실은 100kHz에서 각각 150과 0.02이며 누설전류 밀도는 20kV/cm 에서 약 $1.0{\times}10^{-8}A/cm^2$이었다. 이 조건에서 얻어진 SBT박막의 누설전류 특성은 poole-Frenkel기구에 의해서 지배된다. $550^{\circ}C$에서 annealing된 SBT박막의 잔류분극($_{2}P_{r}$)은 $9{\mu}C/cm^2$이며 항전계는 70kV/cm이었다.
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