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첨단기술 어디까지 왔나 - 화학기상성장법(CVD)편 (중)
발명특허
1987 .01
첨단기술 어디까지 왔나 - 화학기상성장법(CVD)편 (하)
발명특허
1987 .01
화학기상 성장법에 의한 실리콘 부착에 관한 수치해석 ( Nemerical Analysis of Silicon Deposition in CVD Reactor )
대한기계학회 춘추학술대회
2000 .01
개정 의장법의 주요내용
발명특허
1990 .01
CVD 기술동향
전자공학회지
2001 .08
가야밸리 및 첨단기술
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2002 .04
반도체 박막 성장법과 장비기술
전자공학회지
2013 .12
첨단산업기술로서의 표면처리기술 개발 동향 및 기술개발 전략(II)-CVD 기술의 개발 현황 및 전망
기계와 재료
1990 .01
물과 기상
물의 과학
1968 .01
DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd
한국표면공학회지
1996 .12
기상화학증착 텅스텐 막질의 표면 형태에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
기상재해 방지에 첨단과학 이용
방재와 보험
1990 .01
첨단기술의 현장
발명특허
1991 .01
첨단기술의 현장
발명특허
1991 .01
첨단기술의 현장
발명특허
1991 .01
첨단과학과 기술
광학세계
1989 .01
서독 개정등록 의장법(2)
발명특허
1989 .01
서독 개정등록 의장법(3)
발명특허
1989 .01
첨단기술과 기계기술
대한기계학회지
1985 .06
Laser Crystallization of a-Si:H films prepared at Ultra Low Temperature( $ < 150^{\circ}C$) by Catalytic CVD
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2005 .01
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