구리 금속선의 산화 방지를 위한 알루미늄 박막의 산화 방지 특성 ( Characteristics of the aluminum thin films for the prevention of copper oxidation )

이경일 ,  민경익 ,  주승기 외 2명

전자공학회논문지-A

1994 .10

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

LPCVD-Si₃N₄ 박막의 열 산화

고재석 ,  구경완 ,  조동율 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구

박정은 ,  홍혜권 ,  조영호 외 2명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2018 .11

박막트랜지스터의 습식 및 건식 식각 공정

박춘식 ,  허창우

한국정보통신학회논문지

2009 .07

구리박막의 피로특성에 관한 제조공정의 영향

안중혁 ,  박준협 ,  김윤재

대한기계학회 춘추학술대회

2007 .05

구리박판의 열 산화법을 이용한 산화구리 나노선의 형성

조재승 ,  조재유 ,  허재영

신·재생에너지

2017 .06

Cu 산화 공정과 H(hfac)을 이용한 Cu 박막의 건식 식각

양희정 ,  조범석 ,  이재갑

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

그래핀이 성장된 구리기판의 산화공정 및 산화측정에 관한 연구

오준호 ,  김지원 ,  우주연 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2016 .12

유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

반도체 식각 공정모니터링 시스템 개발

박정우 ,  이효익 ,  이홍렬 외 3명

한국통신학회 학술대회논문집

2012 .11

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01

고밀도 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성 분석

강찬민 ,  김관하 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .07

플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화

민철홍 ,  김태선 ,  강경우

전기전자재료학회논문지

2012 .01

DRY ETCHING TECHNOLOGY

Takafumi Tokunaga

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01